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          上?萍即髮W(xué)量子器件中心2020年1月招聘1名EBL工藝工程師

          時(shí)間:2020-01-13來源:中國博士人才網(wǎng) 作者:佚名

          上?萍即髮W(xué)量子器件中心(Shanghai Tech Quantum Device Lab.,SQDL)是學(xué)校開展半導(dǎo)體量子微納器件工藝以及交叉學(xué)科研究的重要?jiǎng)?chuàng)新平臺(tái),是一個(gè)面向全校、科研院所乃至全社會(huì)開放的校級(jí)公共科研平臺(tái)。

          SQDL建設(shè)目標(biāo):適合于學(xué)科前沿和前瞻性技術(shù)發(fā)展的、開放共享的、固體功能材料微納工藝制造平臺(tái),以期形成具備國際一流的研發(fā)技術(shù)水平,為我國芯片技術(shù)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

          SQDL服務(wù)定位:聚焦在量子探測器、微電子芯片為代表的固體微納器件學(xué)科前沿和前瞻技術(shù),與中國科學(xué)院上海分院的各研究所和上海市微納器件重要學(xué)科以及新技術(shù)骨干研究機(jī)構(gòu)形成戰(zhàn)略聯(lián)盟,重點(diǎn)解決技術(shù)成熟度在1-3級(jí)的前瞻技術(shù)概念驗(yàn)證和培育問題;設(shè)計(jì)、構(gòu)造和形成以量子器件、半導(dǎo)體芯片和NEMS芯片為牽引的世界級(jí)水平的微納加工平臺(tái)。

          SQDL發(fā)展方向:重點(diǎn)聚焦在量子器件、微納光電子和納機(jī)電系統(tǒng)等新一代芯片,為破解新一代芯片中卡脖子問題形成貢獻(xiàn)。在量子器件領(lǐng)域,重點(diǎn)圍繞超導(dǎo)材料和硬X射線探測器研發(fā)特殊應(yīng)用領(lǐng)域的量子芯片;新一代微納光電子領(lǐng)域,重點(diǎn)圍繞半導(dǎo)體材料中的GaN基材料、Si/SiC基材料和III-V基材料研發(fā)新一代微光電子芯片;納機(jī)電系統(tǒng)重點(diǎn)方向是圍繞鐵電、鐵磁等功能材料的新型聲學(xué)傳感與射頻器件。

          崗位名稱:EBL工藝工程師

          崗位人數(shù):

          1

          1)    負(fù)責(zé)嫻熟操作與使用包含但不限于電子束曝光機(jī)、掃描電子顯微鏡、勻膠機(jī)、化學(xué)通風(fēng)柜、甩干機(jī)等實(shí)驗(yàn)設(shè)備及裝置;

          2)    負(fù)責(zé)完善與電子束曝光工藝流程(曝光、勻膠、顯影、堅(jiān)膜等)相關(guān)的工藝規(guī)范制訂與執(zhí)行,研究工藝參數(shù)與條件對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律;

          3)    具備對(duì)特殊圖形的電子束光刻工藝技巧,負(fù)責(zé)設(shè)計(jì)制定曝光工藝優(yōu)化方案、優(yōu)化工藝窗口、改善工藝能力;對(duì)新進(jìn)工藝工程師或工藝技術(shù)員執(zhí)行培訓(xùn)方案,以及后臺(tái)用戶預(yù)約的管理;

          4)    負(fù)責(zé)日常電子束曝光工藝問題處理,完成分析報(bào)告并及時(shí)完成相關(guān)文件;

          5)    負(fù)責(zé)電子束曝光工藝相關(guān)的必備耗材與工具清單,并實(shí)行保管和管理;

          6)    負(fù)責(zé)PM電子束曝光機(jī),建立健全設(shè)備管理制度、維護(hù)保養(yǎng)制度,做好設(shè)備技術(shù)資料的形成、積累、整理、歸檔工作;

          7)    負(fù)責(zé)編制年//月度/周儀器設(shè)備的預(yù)檢計(jì)劃、設(shè)備大修計(jì)劃,備品備件制造和供應(yīng)計(jì)劃;

          8)    幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關(guān)的設(shè)備與儀器;

          9)    輔助微納制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開設(shè);

          10)  其他上級(jí)交待的相關(guān)工作。

          1)    具有微電子,光電子,材料或者物理等領(lǐng)域的本科學(xué)歷及以上;

          2)    具備電子束曝光機(jī)使用和維護(hù)經(jīng)歷1年以上,參與過EBL設(shè)備的采購技術(shù)談判經(jīng)歷者優(yōu)先考慮;

          3)    具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷(研究生的在?蒲薪(jīng)歷也適用),具備計(jì)算機(jī)輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力;

          4)    對(duì)半導(dǎo)體器件,光電子器件的工作原理和測試有基本的了解;

          5)    具有良好的團(tuán)隊(duì)合作精神,善于溝通;

          6)    能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語文獻(xiàn)及具備英文寫作能力;

          7)    具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊(duì)合作精神。

          工作條件與工資待遇

          按照上?萍即髮W(xué)相關(guān)規(guī)定執(zhí)行,根據(jù)個(gè)人具體情況,提供具有競爭力的薪酬、津貼和福利。

          應(yīng)聘方式

          請(qǐng)應(yīng)聘者填寫完整的應(yīng)聘材料,通過上海科技大學(xué)人才招聘系統(tǒng)提交應(yīng)聘申請(qǐng),不接受現(xiàn)場應(yīng)聘。

          為防止簡歷投遞丟失請(qǐng)抄送一份至:boshijob@126.com(郵件標(biāo)題格式:應(yīng)聘職位名稱+姓名+學(xué)歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng))

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