薪金：
年薪18W+
學(xué)歷和研究方向：
高分子專業(yè)（合成）背景的博士
【課題組簡介】
導(dǎo)師簡介：
鄧海博士，國家千人特聘專家，復(fù)旦大學(xué)高分子科學(xué)系，聚合物分子工程國家重點實驗室，教授，博士生導(dǎo)師，曾任美國陶氏化學(xué)公司（前身：羅門哈斯公司）高級研究員（1998-2001）、美國英特爾公司高級主管（2001-2014），東京應(yīng)用化學(xué)公司Fellow（2014-2015）。鄧海教授擁有豐富的半導(dǎo)體產(chǎn)線和光刻材料的研發(fā)經(jīng)驗，并且與國內(nèi)外半導(dǎo)體廠商關(guān)系密切。
主要研究領(lǐng)域有：
主攻10nm以下半導(dǎo)體光刻材料的設(shè)計合成及應(yīng)用。課題組受到科技部02專項和上海市科委的大力支持，擁有完善的光刻材料的合成，表征及性能測試平臺。課題組主頁：
http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/
【課題背景簡介】
半導(dǎo)體制造中最關(guān)鍵的材料是光刻膠，有多高分辨率的光刻膠就能造出多小的器件。過去的50年內(nèi)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直沿著Moore’slaw前行。自2003年起，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進入193nm光刻時代，這是國際上最成熟最先進的光刻技術(shù)，并將會一直沿用到10nm的光刻工藝�，F(xiàn)在，Intel已經(jīng)實現(xiàn)了10nm制程的量產(chǎn)。2018年，Intel、臺積電和三星微電子都已進入了7nm分辨率的EUV光刻工藝，并將很快進行量產(chǎn)。面對半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域向更小、更快和更高密度方向發(fā)展的趨勢，下一代10~5nm半導(dǎo)體制程的光刻技術(shù)和材料已成為半導(dǎo)體行業(yè)的研發(fā)熱點。目前國內(nèi)以中芯國際為代表的半導(dǎo)體工藝研發(fā)也進入了14nm制程，但是國內(nèi)的光刻材料與全球先進水平相比仍有著極大的差距：國內(nèi)只能量產(chǎn)低端的i-線光刻材料（國外30年前的產(chǎn)品），國內(nèi)的光刻膠產(chǎn)業(yè)幾乎處于空白狀態(tài)，10nm以下所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美國和日本企業(yè)所壟斷。為了不再受制于人，我國急需研發(fā)探索10納米以下的下一代光刻材料來打破了技術(shù)壁壘，實現(xiàn)彎道超車。上海市和北京市現(xiàn)已立項研發(fā)10nm以下分辨率的DSA材料。目前本組已研發(fā)出世界上最快速自組裝的、5nm超高分辨率的DSA材料，該成果已發(fā)表在SPIE（美國光電協(xié)會）等國際會議上，目前已申請了若干中國及美國專利。
【招聘基本要求】
由于科研工作需要，本課題組招聘博士后研究員1～2名，進行10納米以下的下一代光刻材料的研究，具體要求如下：.
1、具有高分子專業(yè)（合成）背景、有機全合成背景或有高分子合成研究工作經(jīng)驗的博士（應(yīng)屆的或者有工作經(jīng)驗的）。
2、具有良好的英文閱讀和寫作能力，能快速查閱外文文獻，已發(fā)表過相關(guān)領(lǐng)域英文論文。
3、需要具有一定的指導(dǎo)學(xué)生的能力。將會帶領(lǐng)在讀的碩士、博士生進行項目攻關(guān)，身體力行地帶領(lǐng)團隊研發(fā)出新型的高分辨率DSA或含金屬EUV光刻材料。
4.性格開朗，有個人魅力。最好是體育愛好者。
【個人待遇】
課題組為入選者提供優(yōu)越的科研條件和穩(wěn)定的支持，按照復(fù)旦大學(xué)有關(guān)博士后的規(guī)定提供相應(yīng)個人待遇，課題組根據(jù)研究進展和貢獻給予補貼，年薪18萬起。住房：復(fù)旦大學(xué)根據(jù)申請者要求，提供學(xué)校附近一室或二室住房，租金約為市場價格一半。
【應(yīng)聘申請材料】
請應(yīng)聘者將申請材料（簡歷和代表論文全文）發(fā)至yuyunliu@fudan.edu.cn，郵件標(biāo)題注明：應(yīng)聘博士后+本人姓名+中國博士人才網(wǎng)。
【招聘時間】
申請時間為2018年3~6月。
為防止簡歷投遞丟失請抄送一份至：boshijob@126.com（郵件標(biāo)題格式：應(yīng)聘職位名稱+姓名+學(xué)歷+專業(yè)+中國博士人才網(wǎng)）
中國-博士人才網(wǎng)發(fā)布
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